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    高精密研磨和一般研磨的区别在哪

    高精密的研磨和一般研磨在本质上有着很大的区别,具体体现在他的运用层次,运用领域,研磨工艺,研磨所需设备耗材,研磨后的效果等几个大的方面。高精密的研磨就是指纳米级别的研磨,他的运用层次一般很高,多运用于LED,手机通讯,军工航天,电子芯片等。所采用的的研磨工艺和技术也是相当高的,通常要经过两道以上的工序来完成,达到的效果也是其他一般研磨所不能及的,可达到完美的镜面,表面无任何瑕疵,精度至纳米级。

    完成这种高精密的纳米级别的研磨采用的设备有平面研磨机,用来进行粗磨和精磨,还有平面抛光机进行镜面抛光和纳米级的塑造!所用的耗材都是非常精细的,一般有各种细腻的布料皮革做成的抛光布,金属颗粒做成的研磨盘,还有化学制剂做成的抛光液等。
    一般性的研磨就是比较简单的将产品的表面磨平,磨亮,他们一般运用于较低层次的生产生活当中,比如,生活中用的建筑材料:陶瓷,地板砖,玻璃,不锈钢板材,木板等等;生活类的小物件:锅碗瓢盆,不锈钢生活用品,电饭煲等等,还有珠宝类,玉石类,食用的米面等,这些研磨抛光的痕迹几乎随处可见。这些一般性的研磨所用的研磨工艺相当简单,一般只需一道或两道工序就可以完成,所用的设备也及其简单,很多甚至是用手工进行完成的。所需的耗材无非是砂纸,研磨砂,水等一些较为低级的研磨介质。
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