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新闻内容

    化学抛光和电解抛光进行抛光的机理

    被加工工件的表面只有对工件粗糙度小的要求,对精度没有严格的要求,就可以对工件的表面进行抛光加工。对于化学抛光主要是选择能够溶解的材料表面微小的粗糙度中的凸出的部分,从而使得被加工工件的表面变为光滑的一种微细的加工。

    化学抛光主要是以金属材料作为主要的对象,但是最近在实际的加工中会将最终的化学抛光最为最终的抛光方法,可以利用金属在适当的电解液中对工件金属表面进行抛光的一种电加工方法,这种抛光对一般的金属材料都适用,与化学抛光一样,能够对半导体材料进行抛光。

    1、化学抛光的机理。在没有供电的情况下对工件进行抛光,在抛光液中的工件的金属材料,与抛光液相接触的金属的表面会形成局部电流,由于金属材质的不仅有性会出现短路,为了进行化学抛光,就必须要使工件的表面的凸部要先溶解。

    显微镜下观察抛光工件表面化学抛光的过程中,会发现,工件的表面的会被去掉,会形成不完整的部分平滑化。

    2、电解抛光原理。与化学抛光相同,也是靠粗糙度凸部要优先溶解,使得被加工的表面平滑化、光泽话。需要通电操作,被抛光的表面工件会经历了平滑化和光泽化,而出现良好的抛光效果。

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